半导体智能剥离技术研究进展
Research progress of Smart-Cut technology used in semiconductors
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作者:
张晋涛
1,3
汪利
1
周军军
2
张桐民
2
李军
2
杨浚源
1
李炳生
1
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作者单位:
- 通讯作者:
李炳生
Email:libingshengmvp@163.com
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提交时间:2024-05-07 15:05:23
摘要: 智能剥离技术(Smart-Cut)是一种利用离子注入和晶片键合来转移超薄单晶层的技术。在先进微电子系统中,智能剥离技术作为半导体材料异质异构集成的重要技术手段之一,受到了学界和行业的广泛关注。智能剥离技术是在半导体材料表面单一注入或共注入氢、氦离子,并调控注入工艺参数(能量、温度、注量、注量率、注入顺序等),将半导体材料和衬底材料在低温下键合后,再进行退火(温度、时间、速率),使注入层内产生平行表面的微裂纹,从而实现层转移。本论文总结了近二十年第一、二、三、四代半导体智能剥离技术研究进展,分析了微观缺陷和微裂纹生长机制,探究了不同材料的剥离阈值差异原因,为理解和掌握智能剥离技术提供了参考,对利用智能剥离技术制备半导体器件有重要意义。
版本历史
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2024-05-07 15:05:23 |
ChinaXiv:202405.00045V1
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