原子层沉积氧化物纳米薄膜辅助的MOF薄膜制备：从原理到应用
后印本
MOF film growth assisted by atomic layer deposition of oxide nanomembrane: from principles to applications
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作者：
汪奕
1,2,3
苏夏然
1,2,3
赵哲
4
尤嘉阳
1,2,3
张志群
1,2,3
梅宇
1,2,3
姜汉文
1,2,3
陈禺安
1,2,3
崔旭高
1,2,3
梅永丰
1,2,3
黄高山
1,2,3,5
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作者单位：
- 通讯作者：
黄高山
Email:gshuang@fudan.edu.cn
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提交时间：2026-10-19 14:02:58
摘要: 金属有机框架（metal organic framework, MOF）是一类具有高比表面积、可调孔结构及丰富活性位点的多孔材料，在多个领域展现出广泛的应用前景。然而，传统颗粒状MOF及常规方法制备的MOF薄膜存在易团聚、与衬底结合不牢、机械与导电性能失衡等问题，制约了其实际应用。原子层沉积（atomic layer deposition, ALD）氧化物纳米薄膜辅助制备MOF薄膜的策略，利用了ALD致密、均匀且保形的优势，通过沉积金属氧化物（以ZnO为主）纳米薄膜来辅助MOF薄膜生长，可显著增强其与各类衬底之间的结合力，实现了高质量、高负载量MOF薄膜的可控制备。本文详细阐述了ALD辅助MOF薄膜生长的方法及原理，揭示了氧化物纳米薄膜促进MOF成膜的内在机制，并总结了通过调整ALD参数、氧化物纳米薄膜种类及沉积策略来优化薄膜结构与性能的方法。此外，综述了基于该方法制备的MOF薄膜基复合材料在气体与生物传感、能源转化、环境治理等领域的应用，并讨论了该方法在大规模制备、机理深化及多功能集成等方面面临的挑战和未来发展方向。
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链接：
https://www.jfmd.net.cn/article/doi/10.3724/jfmd.2601016
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分类：
材料科学
>>
材料科学（综合）
期刊：
功能材料与器件学报
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投稿状态：
已在期刊出版
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引用：
ChinaXiv:202610.00106
(或此版本
ChinaXiv:202610.00106V1)
DOI:10.3724/jfmd.2601016
CSTR:32003.36.ChinaXiv.202610.00106
- 推荐引用方式：
汪奕, 苏夏然, 赵哲, 尤嘉阳, 张志群, 梅宇, 姜汉文, 陈禺安, 崔旭高, 梅永丰, 黄高山. 原子层沉积氧化物纳米薄膜辅助的MOF薄膜制备：从原理到应用[J]. 功能材料与器件学报, 2026, 32(4): 041101. DOI: 10.3724/jfmd.2601016.
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版本历史
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2026-10-19 14:02:58 |
ChinaXiv:202610.00106V1
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