粉末靶射频磁控溅射非晶Al2O3薄膜的制备与性能研究

分类： 材料科学 >> 材料科学（综合） 提交时间： 2016-11-15 合作期刊: 《金属学报》

吴法宇 李建伟 齐奕 丁梧桐 樊子铭 周艳文

摘要： 采用粉末靶射频磁控溅射方法，制备非晶Al2O3薄膜，分析了溅射工艺参数对Al2O3薄膜微观结构、表面形貌、光学性能的影响规律及机理，并探究其抗菌特性。研究结果表明：增加氧通量、降低溅射功率和缩短溅射时间均会减小非晶Al2O3薄膜颗粒度与粗糙度，同时也降低薄膜的沉积速率；并且，氧通量的增加和溅射时间的缩短均会使非晶Al2O3薄膜禁带宽度变宽（最大值可达4.2eV）、透光率增大（超过90%）；光照条件下非晶Al2O3薄膜24h抗菌率最高可达98.6%，体现出了较好的光催化抗菌性。

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